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无尘↓室中不论外在之空气条件如何变化，其室内均能俱有维持原先所设定∑　要求之╳洁净度、温湿度及压力等性能之特性。
无尘室▅最主要之作用在于控制产品（如硅芯◢片等）所接触之大气的洁净度日及温⊙湿度，使产品能在一个良∩好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为㊣　无尘室√。按■照国际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓ζ无尘并非100%没□有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标▅准中符合灰尘标准的颗粒≡相对于我们常见的灰尘已经是小的微◣乎其微，但是ω对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产▲生非常大的负面影响，所以在光学构造产品♂的生产上，无尘⊙是必然的要求。
如表所示，每立方米将大于0.5微米Ψ粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了〗国际无尘标准的A级。应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的】要求高于A级，这样的高标主要》被应用在一些等级较高芯片生产上。微尘数ㄨ量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内○俗称的1K级别。

无尘室中不论外在之空气条【件如何变化，其室内均能俱有维持』原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能之特性。
无尘室最主要之作用在于控制产品（如硅芯片¤等）所接触之大气的洁净度日及温湿▽度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为无尘室。按照国际惯卐例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所☆谓无尘并非100%没有一点灰尘ㄨ，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以ξ　在光学构造产品的生产上，无尘是必⊙然的要求。
如表所示，每立方米将大于0.5微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准△的A级。应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求╲高于A级，这样的高标主要被应用在一些等→级较高芯片生产上。微尘数量被严格控制在每立方＠ 米1000个以内，这也就是业内俗称的1K级别。

无尘室中不论外在之空气条件如何变化，其室内均能俱有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能之特性。
无尘室最主要之作用在于控制产品（如硅↑芯片等）所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为无尘室。按照︽国际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要求。
如表所示，每立方米将大于0.5微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了≡国际无尘标准的A级。应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于A级，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1K级别。

无尘室中不论外在之空气条件如何变化，其室内均能俱有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能之特性。
无尘室最主要之作用在于控制产品（如硅芯片等）所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为无尘室。按照国际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要求。
如表所示，每立方米将大于0.5微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准的A级。应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于A级，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1K级别。