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无尘室㊣中不论外在之空气条件如何变化，其室内均能俱有维持原先所设定ξ　要求←之洁净度、温湿度及压力等性能之特○性。
无卐尘室最主要之作用在于控制产品（如硅ζ芯片等）所接触之大气的洁净度日及温湿¤度，使产品能在一个良好之环境空♂间中生产、制造，此空间我们称之为无尘室。按照国际惯♂例，无尘净化级别主要是根据每╲立方米空气中粒子直径大于划分标准〖的粒子数量来规√定。也◣就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非☆常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘∞标准的颗粒相对于我们常见※的灰尘已经是小的微乎其』微，但是对于∩光学构造而言，哪怕是一点点的灰◥尘都会产生非常大的负面影』响，所以在光学构↘造产品的生产上，无尘是〖必然的要求。
如表所示，每立方◆米将大于0.5微米粒■径的微尘数量控制在3500个以下，就达到＠了国际无尘标准的A级。应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的≡要求高于A级，这※样的高标主要被应用在一些等级较高芯ξ片生产上。微尘数量【被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的◣1K级别。

无尘室中不论外在之空气条件如何变化，其室内均能俱有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度ξ及压力等性能之特性。
无尘室最主要之作用在于控制产品（如硅芯片等）所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为无尘室。按照国际惯例◇，无尘净化级别主要是根据每立♂方米空气中粒子直径大于划分标准的ζ　粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单▂位上。当然卐这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已Ψ经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必〓然的要求。
如表所示，每立方米将》大于0.5微米粒径的微尘【数量控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准的A级。应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘╳的要求高于A级，这样的高标→主要被应用在一些等级较高芯片生产上。微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1K级别。

无尘室中不论外在之空气条件如何变化，其室内均能俱有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能之特性。
无尘室最主要之作用在于控制产品（如硅芯片等）所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为无尘室。按照国际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空◥气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰↘尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要∩求。
如表所示，每立方米将大于0.5微米粒径的微▼尘数量控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准的A级。应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于A级，这样的∑高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1K级别。

无尘室中不论外在之空气条件如何变化，其室内均能俱有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能之特性。
无尘室最主要之作用在于控制产品（如硅芯片等）所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为无尘室。按照国际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要求。
如表所示，每立方米将大于0.5微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准的A级。应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于A级，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1K级别。