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无尘室中不论外在之空气条件ω如何变化，其室内均能俱有维持原先所设定要√求之洁净度、温湿度及压力等性能之特●性。
无♂尘室最主要之作用在于控制产品（如硅芯片等）所■接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间∞中生产、制造，此空间︽我们称之为无尘室。按照国际★惯例，无尘○净化级别主要是根据每立方米空气〓中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点↘灰尘，而是控制在一个非常微量◥的单位上。当然这个标准中符□合灰尘标准的颗粒相对于我们常见☆的灰尘已经是小的微■乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘◇都会产生非常大的◥负面影响，所以在光∑学构造产品的生产上，无尘是必◢然的要求。
如表所示，每立方米□　将大于0.5微米粒径←的微尘数量控制在3500个以下，就达到了国际无尘标◥准的A级。应用在★芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高△于A级，这样的高◥标主要被应用在一些等级较高芯片生〒产上。微尘数量被严格控制在每立方↓米1000个以内，这也就是业内俗称的1K级别。

无尘室中『不论外在之空气条件如何变化，其室内均能俱有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能之特性。
无尘室最主要之作用在于控制产品（如硅芯片等）所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空卐间我们称之为无尘室。按照国际ω　惯例，无尘净化¤级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一ㄨ点灰尘，而是控制在一个非常微量∮的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎□其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常▲大的负面∏影响，所◣以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要求。
如表所示，每立方米将大于】0.5微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准的A级。应用在芯片级生╲产加工的无尘标准对于灰尘的要◥求高于A级，这样的高标主要№被应用在一些等级较高芯片生产上。微尘数量被严格控♂制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1K级别。

无尘室中不论外在之空气条件如何变化，其室内均能俱有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能之特性。
无尘室最主要之作用在于控制产品（如硅芯片等）所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为无尘室。按照国〓际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是↙控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要求。
如表所示，每立方米将大于0.5微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准的A级。应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于A级，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。微尘数量被◤严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1K级别。

无尘室中不论外在之空气条件如何变化，其室内均能俱有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能之特性。
无尘室最主要之作用在于控制产品（如硅芯片等）所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为无尘室。按照国际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非100%没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要求。
如表所示，每立方米将大于0.5微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准的A级。应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于A级，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1K级别。